近期外交部發生新版護照內容錯誤事件，誤將美國機場當成桃園機場而做為護照內頁底圖的內容[1]，此錯誤造成國庫必須支付新台幣九千萬元重印護照[2]。雖然外交部決定懲處護照印製業務所有經手的人員，但承辦人員所製作的機場底圖是否侵害他人著作權，卻是被忽略的問題。

根據報導，負責印製單位的美工人員在網路上找到機場照片，並重新繪圖成用於底圖的機場圖樣[3]。不過另有媒體質疑「重新繪圖」的可性度，並舉出有軟體可將照片加工而成為「繪製」的圖樣[4]。到底真相如何，外交部應有正式調查報告。

重製行為或是改作行為？

至於系爭機場底圖，乃對於原機場照片的利用行為，如果該底圖是根據原照片而繪製，則屬改作行為；如果該底圖是透過軟體而製作，則該利用行為包括重製原照片至侵權人電腦之行為，及改作原照片之行為。無論是重製行為和改作行為，皆應獲得照片著作權人之同意；否則機場底圖的繪製行為有侵害重製權和改作權的問題。除了民事責任之外，相關業務承辦人員可能有刑期高達三年的刑事責任。

為釐清著作權侵害與責任爭議，有諸多必要調查的事實。首先是印製單位美工人員的藝術相關學經歷，此與該人員能否繪製機場圖樣之問題有關。如果該人員無繪製能力，則媒體質疑以軟體製作底圖行為即可能屬實；進而因不易主張合理使用，而增加成立侵害著作權之可能性。

其次是該美工人員從何處取得美國機場照片。如果是網路上的照片，應該有相關網址資訊，而其網頁資訊可能揭示權利人身分或聯繫方式，故可檢視該人員或承製單位是否故意捨棄尋求照片使用授權之作法。如果是取自資料庫，應該有相關授權條款可判斷其利用行為是否為授權範圍。

是否為合理使用範圍？

第三是系爭機場底圖的繪製稿件與原機場照片，二者可用來判斷合理使用的適用與否。根據著作權法第65條規定四個合理使用的判斷因素，第一項因素「利用之目的及性質，包括係為商業目的或非營利教育目的」，其關鍵問題是「轉化使用」，亦即「利用人利用原著作時若賦予與原著作不同之其他意義與功能，若與原著作差異性越高，轉化性越大，則可主張合理使用之空間則越大」[5]。如果是親手繪製，且繪製手法非單純重製原照片內場景或事物輪廓，而有一定繪畫上的藝術價值，則有可能達成轉化使用的程度。反之，如果繪製僅是軟體作用，且與原照片的內容無本質差異而皆屬景物的事實呈現，則不應成立轉化使用。該判斷必須依賴原照片與系爭底圖原稿之比對。

關於第二項因素「著作之性質」，問題在於原機場照片是單純反應場景事實，或是有攝影者的精神投入，其涉及該照片之「原創性」判斷。如果原照片達到攝影藝術的價值，則屬原創性作品；因而系爭底圖若僅照描照片內場景輪廓時，其難以主張合理使用。

關於第三個因素「所利用之質量及其在整個著作所占之比例」，其論斷必須比較原機場照片和機場底圖的差異。不過，因原機場照片內的場景輪廓應屬主要元素，故無論用何種方式（手繪或軟體）完成系爭底圖，其仍利用比例的「質」應甚高，而不利合理使用主張。

第四項因素則為「利用結果對著作潛在市場與現在價值之影響」，其檢視「原著作經濟市場是否因[侵權著作]產生『市場替代』之效果，而使得原著作的商業利益受到影響，若對原著作商業利益影響越大，則可主張合理使用之空間越小」[6]。手繪的藝術性或僅是軟體使用結果將是關鍵問題。若系爭底圖乃手繪且具有藝術性，因為與照片屬不同藝術性質的內容物，而較無市場替代之可能。反之，如果僅是軟體效果所產生的底圖，則屬照片數位化後之直接利用，應為原照片權利人可有的授權利用方式，因而合理使用空間近乎零。

最後，應調查的是印製單位和外交部有無要求原機場照片的來源證明。此涉及護照印製承辦過程相關人員是否善盡查證義務。護照使用侵權內容之行為是集體行為，包括美工人員的繪製行為、及同意該底圖使用於護照的決策行為，缺一不可。因而，相關人員對著作權議題的態度，將是該人員是否應負共同侵權責任之關鍵事實，而有查明之必要。

備註：

1. 見http://www.cna.com.tw/news/firstnews/201801080199-1.aspx。
2. 見https://udn.com/news/story/11311/2897696。
3. 見https://newtalk.tw/news/view/2017-12-26/108343。
4. 見https://udn.com/news/story/11721/2897938。
5. 智慧財產法院104年度民著上字第5號民事判決/事實及理由/六/(五)/4/(1)。
6. 智慧財產法院104年度民著上字第5號民事判決/事實及理由/六/(五)/4/(4)。

【本文僅反映專家作者意見，不代表本報立場。】

作者： 陳秉訓 現任： 國立政治大學科技管理與智慧財產研究所助理教授 經歷： 國立台北科技大學智慧財產權研究所助理教授、華邦電子公司製程工程師、聯華電子公司製程整合研發工程師、台灣茂矽電子公司專利工程師、禹騰國際智權公司專利工程師、威盛電子公司專利工程師、亞太國際專利商標事務所專案副理。 學歷： 美國聖路易華盛頓大學（Washington University in St. Louis）法律博士（Juris Doctoris，J.D.，2010年畢）。美國聖路易華盛頓大學智慧財產暨科技法律法學碩士（LL.M. in Intellectual Property and Technology Law）（2008年畢）。政治大學法律科際整合研究所法學碩士（2007年畢）、台灣大學化工所碩士（1999年畢）、台灣大學化工系（1997年畢）。

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