在外观设计申请实务中，为了在2D绘图中显示3D产品外观形状的轮廓或表面，外观设计申请人经常使用绘图技术（例如：切边线，也称为线框）来指明表面轮廓，以代替或添加阴影线或点画。最近，美国加州北区地方法院在simplehuman, LLC v iTouchless Housewares and Products Inc. 的案件发布了一项关于专利权范围解读的命令，将两项外观设计中所谓的轮廓线解释为主张的装饰性特征。在该决定中，法院强调了外观设计中清晰表面阴影的好处，且确定图纸中用以说明曲面和平坦表面之间的过渡边缘所谓的轮廓或切边线不是表现表面轮廓的适当线条，而是其所主张的装饰性设计特征。

图片来源 : shutterstock、达志影像

实务中CAD图式的轮廓线、阴影线和边切线[1]

目前大多数设计师使用各种 CAD 制图软件来设计产品，并绘制可用作外观设计申请中的图形的二维图式。图3及图4揭露的是典型的2D等角 CAD 图式，使用三种不同的精描图方式来绘制水龙头把手。将FIG.1的阴影版与FIG.2及FIG.3两个版本的图式进行比较，会发现阴影版图式中的设备上并没有像蜘蛛网一样的一堆小线条，称之为边切线。或称为交叉线（Intersection Lines）、等高线（Contour Lines）、切边或镶嵌线（Tessellation Lines）。

图3：带有阴影的产品精描图


图4：CAD的线框图


图5：八条肋辐射状排列水龙头把手之线框图

CAD图的边切线（tangent lines）

究竟什么是边切线，如何决定它们的位置？在CAD工程图中，只要曲面与平面交接处或是曲面上的半径发生变化，都会出现边切线。我们以图5中FIG.3揭露的具有剖视图的放射状排列水龙头把手为例说明，对于图5中红色指示的部分进一步的解释，图6的FIG.1是放大的垂直投影用以供分析的指示区域。根据边切线出现位置的定义，我们可以从该部分预测它们的位置。迭加在一个蓝色的小圆圈在图上，形成FIG.2中的一个蓝色圆圈，它与代表圆角的红色线的曲线相匹配。

在红色和蓝色曲线对齐的地方，两条曲线的半径相同。红色曲线开始不对齐的两个点是半径发生变化的地方，这些点用绿点标记着。根据已知的定义，在标记位置，应该有两条切线进入设备表面的页面。FIG.3是FIG.2的平面图。FIG.3是后侧等距投影平面。在图中添加了代表边切线的水平线，且以 30 度角绘制以匹配等距投影图。FIG.4是最终的结果，如果将FIG.3迭加到图5的FIG. 6，在理想情况下，三条绿色切线应与下方对应的黑色切线完美对齐，这样预测边切线位置的目标已经达到。以上这些补充说明提供了更容易理解边切线及其代表的含义，即物体表面半径的变化。

图6：图解曲面半径变化与边切线位置的关系

外观设计图式中的边切线不是阴影线

MPEP中关于设计申请文献之规定，图式应提供适当的表面阴影，以清楚地显示所有表面的特征和轮廓......。专利图式中使用的表面着色有两种类型，即点画和线条表面阴影。点画不使用线条，因此，我们只讨论线条表面阴影以及边切线。

外观设计图式中的线条表面阴影可用多种样式呈现，就像图7中揭露的模式一样。在一般公认的实务做法，间距越来越窄的阴影线，也称为加速混合，导致区域外观越来越暗，表示曲面，而保持相等间距的线条则是表示平面，如图7左侧。

图7：物品表面阴影线的呈现方式

外观设计的申请历史档案中，并未在图式中使用边切线来表示表面阴影，边切线不应在外观设计图中使用，因为在长期惯例中，在图式中边切线不被允许用来表现圆弧面和平面的表面阴影（如图8）。换句话说，它们不「合适」。边切线确实可为观察者提供了表面信息，但以边切线作为在表面阴影，在实务中不是寻常的做法，且在实体审查过程中经常不为审查人员所接受，总是不能顺利通过审查。

图8：物品表面线条阴影的呈现方式

现实生活中的实际产品表面不会显示出切线。图4左侧的FIG.1中水龙头把手是真实精描图的效果。如果图4的FIG.1是你想要保护的设备外观。而你想要使用线条图来申请设计专的保护，使用图4左侧的框线图外观。这样的呈现方式可能会不合时宜的改变设备的外观，因为实际的水龙头产品表面不会有这些线的存在。边切线可能会造成对要求保护区域的解读的混淆，边切线是否代表设备中的请求保护的部分？这是审查人员或陪审员在审判中需要回答的问题。观察图5右侧的部分放大图中，红色边切线可以解释为表示设备的许多部件聚集在一起的接缝。如果阴影线的使用非常得宜，这张图以传统方式进行阴影处理（如图3的FIG.1及FIG.2），就不会在保护范围这方面造成混淆。

备注：

好消息～北美智权报有微信公众号了！ 《北美智权报》内容涵盖世界各国的知识产权新闻、重要的侵权诉讼案例分析、法规解析，以及产业与技术新知等等。 立即关注北美智权微信公众号→ NAIP_IPServices ～欢迎读者分享与转发～

【本文只反映专家作者意见，不代表本报立场。】

作者： 叶雪美（Sherry H.M. Yeh） 学历： (台湾) 世新大学法律研究所法学硕士 (台湾) 成功大学工业设计系学士 经历： (台湾) 「智慧财产局」专利一组 简任专利高级审查官 (台湾) 中央标准局新式样专利主任审查员（75-76） (台湾) 中央标准局专利审查委员（80-89） (台湾) 台湾科技大学 专利所 兼任助理教授 著作： 《美国外观设计侵害认定相关问题研究－兼论我国新式样专利侵害认定问题》，2004。 《外观设计申请实务－台湾及美国专利申请策略》，元照出版公司，2008。