在外观设计申请实务中，为了在2D绘图中显示3D产品外观形状的轮廓或表面，外观设计申请人经常使用绘图技术（例如：切边线，也称为线框）来指明表面轮廓，以代替或添加阴影线或点画。最近，美国加州北区地方法院在simplehuman, LLC v iTouchless Housewares and Products Inc. 的案件发布了一项关于专利权范围解读的命令，将两项外观设计中所谓的轮廓线解释为主张的装饰性特征。在该决定中，法院强调了外观设计中清晰表面阴影的好处，且确定图纸中用以说明曲面和平坦表面之间的过渡边缘所谓的轮廓或切边线不是表现表面轮廓的适当线条，而是其所主张的装饰性设计特征。

美国外观设计申请案仅得主张一项申请专利范围。申请专利范围系依据具体实施或应用其设计的物品界定申请人欲取得专利之设计。申请专利范围的形式必须写成「如图及所述（具体实施或应用设计之所在的物品）之装饰性设计」。由于外观设计权利范围非常依赖于所附之图式。因此，MPEP[1]第15章中规定，外观设计申请案必须提出充分且足够的视图，所附之图式必须足以清楚且完整地揭示申请人所主张的整体外观设计，任何揭示于图式中的部分都是外观设计权范围的重要元素（essential element）[2]。在Elmer案件[3]中，CAFC说明：审判法院有责任解读外观设计的权利范围，解读专利主张的权利范围是法官的工作，而陪审团必须接受法官所作的正确解读。外观设计权范围解读之基本原则，是以USPTO所公告之图式为主，再以说明书及申请过程档案为辅，运用先前案例所建立的法则（rules）予以解读。

图式相关的法律规定

施行细则第1.152条之规定

申请案须附有依照专利法施行细则第1.84条所要求之代表图式，必须包含能充分显示该设计多面视图所构成的完整揭露。图式中，可使用特有和适当的表面阴影，以显示该设计之特征或外观轮廓；不允许使用纯黑色表面阴影，除非用于表示黑色以及颜色对比。虚线可用于显示可视的环境构造，但不可使用在显示无法穿透之不透明材料下所隐藏平面和表面。

在外观设计的申请案中，不得将照片和墨线图组合使用于同一申请案之正式图式中；在外观设计申请案中，以照片取代墨线图时，照片不能揭露环境构造，只能揭露该物品所请求的设计；设计图式不允许将其中一个设计零件的变更位置以断线的形式存在同一图式上。

每一件外观设计申请案必须附上所请求之设计之图式或照片。申请人所附的图式或照片必须是清楚而且完整，这一点很重要，因为这些图式或照片是用来组构出该申请专利之设计的整体外观及视觉效果，况且，外观设计系依据其所附的图式或照片内容而授与专利。

MPEP有关外观设计图式的规定

各面视图

为完整地揭示主张之设计的整体外观，以墨线绘制的图面或黑白照片，其中必须包含足够数量的各面视图，例如：前视图、后视图、右侧视图、左侧视图、仰视图及俯视图。立体图不是必要的视图，但系属物品形状或外观的立体空间设计者，则建议提出立体图，得以清楚显示三度空间型态的形状或外观。当所提出的立体图可以清楚明确地揭示该设计的形状或外观，而不需要再以其他视图来说明时，则可省略掉其他视图。

如其中一视图仅属复制该设计的其他视图，或者仅是光滑表面的视图而不包括其中的装饰图样者，只要能由说明书之内容就可清楚知晓时，设计的图面中就得以省略掉这些视图。例如，设计的左侧视图和右侧视图是相同或是对映的镜像时，只需提供其中一个视图，并在图面说明中叙明「另一个视图是相同或是对映的镜像」即可。如设计的仰视图系为光滑表面时，可在图面说明中叙明「该仰视图是未经装饰的光滑表面」，即可省略该仰视图。如果可看到的表面是具有结构而且明显地不光滑者，就不得用「未经装饰」用语来描述这种表面。在某些案例中，虽以物品的整体来主张外观设计，但该物品在正常使用情形下，无法看到该物品所有的视图，这种情况下，可以不必揭示该物品的所有的视图。另可以将设计中的各个组件更清楚地分辨的剖面图，是允许提出的，但在剖面图中揭露功能性的特征或与该外观设计无关的内部结构，则是法所不允许的。

表面的阴影

图式中物品的表面应以适当的阴影来处理，以便清楚地揭示该设计的立体空间外观所有的表面轮廓与特征。以表面阴影来明显区分该设计的实体区域与开放区域是必要的。一般情形，有两种方法可以应用阴影，线性（如图1左侧）或点画。点画是使用小点进行着色。允许在同一物体上使用点画和直线阴影以显示对比，但不应在同一表面上使用（如图1右侧）。不可以使用整个黑色表面阴影的表现方式，但以整个黑色表面阴影的方式来表现黑色及其与其他色彩之对比关系，则不在此限。如果申请专利之设计的图面，因为没有绘制适当的表面阴影，而导致该设计的形状及轮廓无法清楚辨识者，则不合于美国专利法第112条第1项规定。

图1：物品表面阴影的揭露方式

此外，依据申请时文件所揭露的内容，无法清楚得知该设计的形状，于尔后所补充的图面再添加表面阴影，应视为加入新事项（new matter）。而所谓新事项系指凡加入于请求项、图面或说明书的事项，或根据请求项、图面或说明书而加入的事项，在最初外观设计申请案文件的内容中，并未揭示过或建议过该事项时，即构成加入新事项。

虚线

使用虚线的目的仅是为了协助说明，惟虚线所表示的部分并不是该主张之设计一部分。在必须表示该设计所使用的环境时，结构环境虽不是该设计的一部分，但可在图面中以虚线来表示该结构环境（如图2右侧）。凡系属该设计所具体实施或应用之物品部分，该物品虽不是所主张之设计的一部分，但可使用虚线来表示该物品。当主张之设计仅是物品的表面装饰时，该表面装饰所具体实施或应用之物品，可使用虚线表示之。如果边界线不打算构成要求保护设计的一部分，则可以用虚线表示。当该边界现在实施该设计的物品中实际上不存在时，申请人可以选择用虚线定义要求保护的设计的边界（如图2左侧）。应当理解，要求保护的设计延伸到边界但不包括边界。

图2：图式中以虚线表示环境及边界线

一般使用虚线的原则，系虚线部分不得干扰或越过所主张之设计，同时，虚线的线条应较细，而描绘所主张之设计所使用的线条较粗黑。当表示结构环境的虚线不得不干扰或越过表示主张之设计图像，或者使该设计的清楚程度变得模糊时，应该增加一张只有所主张之设计的图形，或另外绘制其他能清楚明确的揭露设计目标之图面，以资说明。

备注：

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作者： 叶雪美（Sherry H.M. Yeh） 学历： (台湾) 世新大学法律研究所法学硕士 (台湾) 成功大学工业设计系学士 经历： (台湾) 「智慧财产局」专利一组 简任专利高级审查官 (台湾) 中央标准局新式样专利主任审查员（75-76） (台湾) 中央标准局专利审查委员（80-89） (台湾) 台湾科技大学 专利所 兼任助理教授 著作： 《美国外观设计侵害认定相关问题研究－兼论我国新式样专利侵害认定问题》，2004。 《外观设计申请实务－台湾及美国专利申请策略》，元照出版公司，2008。