PE 專欄
從一件美國專利申請案看國外企業的專利佈局

Elent╱IH資深專利工程師,中國專利代理人

2013.08.01
         

作者簡介:

作者Elent小姐大學主修材料化工,並取得碩士學位。畢業後曾任職富士康智權部門,後轉任專利事務所;目前為某大企業內部智權從業人員 (In-house IP),有十餘年專利從業經驗,具中國專利代理人證照資格。歡迎關注作者博客Elent職業生涯側記

我們已經身處於一個國際大環境了,國外企業的專利情報系統多麼發達,只要你申請了對他們造成危險的專利,他們馬上就會得知並且快速作出反應;你如果有專利出售,他們馬上就把你企業的內部情況查得一清二楚,從而找出談判的籌碼;你要佔領他的市場,在他的領域內分一杯羹,他會把你扼殺在搖籃裡。 但是,我們的企業老總們卻是沒有切膚之痛,就不會引起警覺。一名嚐到苦頭的老總很無奈地說:「我做了一輩子技術,最後卻摔倒在專利上面! 」  


在處理一件美國申請的中國國內同族的答辯時,因為美國階段就很複雜,涉及的專利申請及專利很多,所以就查了這篇專利的引證關係,一查之下不得了,下面列出的就是專利族資訊,所涉專利多得讓人瞠目結舌。 

US2010139694A1     Cleaning Compound and Method and System for Using the Cleaning Compound   
US2010317556A1     Two-Phase Substrate Cleaning Material  
US2010059088A1     Method and Apparatus for Removing Contamination from Substrate
US2006128590A1     Method for removing contamination from a substrate and for making a cleaning solution  
US2006128600A1     Cleaning compound and method and system for using the cleaning compound   
US2007087950A1     Method and system for using a two-phases substrate cleaning compound  
US7696141B2        Cleaning compound and method and system for using the cleaning compound   
US2010206340A1     Method for Removing Contamination from a Substrate and for Making a Cleaning Solution 
US7737097B2        Method for removing contamination from a substrate and for making a cleaning solution   
US2007079848A1     Method and apparatus for removing contamination from substrate   
US2007084483A1     METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE  
US2007084485A1     METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE  
US7648584B2        Method and apparatus for removing contamination from substrate   
US2010313918A1     Apparatus for Cleaning Contaminants from Substrate  
US7799141B2        Method and system for using a two-phases substrate cleaning compound  
US20100705445      Cleaning Compound and Method and System for Using the Cleaning Compound   
US20100862072      Two-Phase Substrate Cleaning Material   
US20090620288      Method and Apparatus for Removing Contamination from Substrate   
US20060346894    Method for removing contamination from a substrate and for making a cleaning solution 
US20060347154    Cleaning compound and method and system for using the cleaning compound   
US20060519354    Method and system for using a two-phases substrate cleaning compound   
US20100768349    Method for Removing Contamination from a Substrate and for Making a Cleaning Solution 
US20060336215    Method and apparatus for removing contamination from substrate   
US20060612352    METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
US20060612371    METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
US20100862091    Apparatus for Cleaning Contaminants from Substrate   

       由於soopat裡給出的引證圖不能拷貝,因此只能截取其中一小部分如下,從中我們可以看出國外專利佈局的用心之處。 

當我把這張圖發給國內企業的同行時,他們都是一副驚訝的表情。

政府也不知道企業要的是什麼

有一天跟上海企業內的同行們談起這個話題時,大家最關心的也是如何進行專利佈局。同時,也談到企業內老總們的短視。前陣子有個朋友在聊天時告訴我,上海知識產權局的局長給他們培訓座談時說了一句話:「我們上海知識產權局,包括國家知識產權局,都不清楚你們企業到底需要什麼了」。是的,近年專利的推動,還主要靠政府及專利資助政策,於是應運而生了一大批專案申報專員,為的是把政府資助弄到手,為企業省錢;但是項目完成後,就不再過問專利的前途了。政府有在推動專利資料庫,但是作出來了,企業不會運用,會運用的又嫌不夠有針對性。所有的初衷都沒有讓企業走上正視專利的道路,政府真的是沒招了。 
 
必須重視起來

但是,在行業待久了就會發現,我們已經身處於一個國際大環境了,國外企業的專利情報系統多麼發達,只要你申請了對他們造成危險的專利,他們馬上就會得知並且快速作出反應;你如果有專利出售,他們馬上就把你企業的內部情況查得一清二楚,從而找出談判的籌碼;你要佔領他的市場,在他的領域內分一杯羹,他會把你扼殺在搖籃裡,這一切都是市場導向的。專利如果運用得好,其實是非常有意思的工作。 
 
但是,我們的企業老總們確實不嘗到切膚之痛,就不會引起警覺。前期文章現實版的專利圍剿 專利價值的重新認知中提到上海那家纖維生產廠家,在申請了材料專利後被國外巨頭布下專利網,老總很無奈地說:「我做了一輩子技術,最後卻摔倒在專利上面! 」
 
這個時代,中國的市場地位已經足以使國外巨頭們垂涎的。為了保住在中國市場的地位,今後在專利上的較量會越來越多,應該引起國內企業的重視啦。 

 

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