受到全球半导体市场衰退的影响，市场变化和利润的降低使得企业必须不断创新，半导体的知识产权问题变得更加重要。对于知识产权的保护，第一个想到的便是藉由专利申请来对其作保护，然而在半导体领域，关于集成电路布图设计的保护，除了专利申请外，还可以藉由集成电路布图设计登记来对 其创新发明给予更为完整的保护。

近年来，中国山寨文化盛行， 中国为了鼓励集成电路技术的创新与促进科学技术的发展，因此特别 针对集成电路（Integrated Circuit, IC）产业制定了【集成电路布图设计保护条例】（以下简称条例），为集成电路布图设计提供了另一个知识保护。

读者可能会有些疑问，既然已申请专利，那么是否可不需要另外再申请集成电路布图设计专有权的保护呢？

一般的创新发明，大多一定会申请专利权予以保护，发明专利或实用新型专利均是保护集成电路的操作、原理、方法、装置等；然而，对于集成电路的独创性的电路布图设计实体，发明或实用新型专利便比较无法提供完整的保护，因此，若要针对集成电路布图的设计给与完整的保护，申请人便须依据集成电路布图设计保护条例向中国国家知识产权局（SIPO）提出登记申请。

举例来说，苹果计算机 (Apple) 推出独创性的手机－iPhone，iPhone 轻薄的集成电路设计为Apple的独创发明电路，因此，Apple除可针对iPhone独创的发明申请发明专利外，要更完整的保护该项发明设计，亦可向SIPO登记申请集成电路布图设计专有权，以让其独创轻薄的集成电路布图设计获得更加完整的保护。

根据集成电路布图设计保护条例第30条第一款的规定：『 … 未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：（一）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；（二）为商业目的进口、销售或者以其它方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。 』因此，为了保护独创性的集成电路布图设计，避免被他人将其山寨化，登记申请集成电路布图设计专有权不失为另一保护的途径，如此一来，独创性的集成电路或集成电路布图设计便能获得更加完整的知识产权保护。

以下也向各位读者说明如何申请集成电路布图设计专有权，以供您未来作为知识产权申请策略的参考。

在此概述申请集成电路布图设计的相关规定，及该提交哪些文件与物品。首先，于条例第2条针对相关名词做了明确定义：

（一）集成电路
是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源组件的两个以上组件和部分或者全部互联机路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；

（二）集成电路布图设计 （以下简称布图设计 (layout-design)又称拓朴图(topography)）
是指集成电路中至少有一个是有源组件的两个以上组件和部分或者全部互联机路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；

（三）布图设计权利人
是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其它组织；

（四）复制
是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

（五）商业利用
是指为商业目的进口、销售或者以其它方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

因此，凡符合前述法律定义的客体均是法律所保护的范畴。

本条例第12条规定 集成电路布图设计专有权的保护期间 为10年， 自布图设计登记申请之日，或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较早日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。另本 条例第17条规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

另本条例第4条关于保护客体要件亦有相关规定，『受保护的布图设计应具有独创性。亦即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计；受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。』相对地，本条例第5条针对其它不受保护的客体亦有规定，『下述不受本条例的保护：思想、处理过程、操作方法或者数学概念等，均不受到保护。』

此外，本条例针对专有权亦有所规定，第3条规定『除中国自然人、法人或者其它组织所创作的布图设计，享有布图设计专有权外，外国人所创作的布图设计第一次在中国境内投入商业利用的，亦享有布图设计专有权，另外国人创作的布图设计，该创作者所属国籍与中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约，享有布图设计专有权。』，而台湾属于外国还是中国呢？依据『申请集成电路布图设计保护须知』的规定，『港、澳、台湾地区的申请，按国内申请处理，但法人必须委托涉外代理机构办理。』由上述可知，若为台湾个人则依据中国自然人办理，而法人单位则须经由涉外代理机构办理。

根据 集成电路布图设计保护条例实施细则第2条规定，集成电路布图设计专有权的登记机构为国家知识产权局 (SIPO) ，另集成电路布图设计保护条例实施细则第4条第2款针对代理机构作了明文规定，『在中国没有经常居所或者营业所的外国人、外国企业或者外国其它组织在中国申请布图设计登记和办理其它与布图设计有关的事务的，应当委托国家知识产权局指定的专利代理机构办理。』如规定所述，外国企业可以委托专利代理机构向国家之市产全局办理集成电路布图设计专有权的登记。

申请 集成电路布图设计专有权该准备哪些文件呢？条例的 第 16 条针对申请提交文件及附件作了明确规定。

「申请布图设计登记，应当提交：

1. 布图设计登记申请表；
2. 布图设计的复制件或者图样；
3. 布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；
4. 国务院知识产权行政部门规定的其它材料。」

此外，在集成电路布图设计登记申请表中，必须勾选集成电路的「结构」、「技术」、「功能」等分类项目，集成电路布图设计复制件或图样可附上简单的文字说明，且于登记证书中亦须载明「布图设计名称或利用该布图设计所制造知集成电路名称」。

对「对申请文件」的规定

集成电路布图设计保护条例实施细则第12条，亦针对申请文件作了进一步规定：

1. 以书面形式申请布图设计登记的，应当向国家知识产权局提交布图设计登记申请表一式两份以及一份布图设计的复制件或者图样。
2. 以国家知识产权局规定的其它形式申请布图设计登记的，应当符合规定的要求。
3. 申请人委托专利代理机构向国家知识产权局申请布图设计登记和办理其它手续的，应当同时提交委托书，写明委托权限。
4. 申请人有2个以上且未委托专利代理机构的，除申请表中另有声明外，以申请表中指明的第一申请人为代表人。 」

对「集成电路复制件或图样」的规定

集成电路布图设计保护条例实施细则第14条，也针对集成电路复制件或图样作了明确规定：「复制件或图样应符合下列要求：

1. 申请人提交的复制件或者图样应当至少放大到用该布图所生产集成电路的20倍以上；
2. 布图设计的复制件图样有多张纸件的，应按顺序编号并附具目录；
3. 布图设计的复制或者图样应当使用A4纸格式，一式两份；
4. 复制件或者图样可以出具简单的文字说明，用以说明集成电路布图设计的结论、技术、功能。」

对「集成电路登记样品」的规定

集成电路布图设计保护条例实施细则第16条，则对集成电路登记样品要求作了明确规定：「申请保护的布图设计在申请日前已投入商业利用的，应当在申请时提交 4 件含有该布图的集成电路样品，并应当符合下列要求：

1. 所提交的4件集成电路样品要置于能保证其不受损坏的专用器具中，并附具填写好的国家知识产权局编制的统一表格；
2. 器具表面应当注明申请人姓名、申请号和集成电路名称；
3. 器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放10年。」

对「保密信息」的规定

若布图设计在申请日前并未投入商业利用，则申请人可以提出保密信息的申请。依据集成电路布图设计保护条例实施细则第15条第1项的规定，「布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50％。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。」

申请人该如何提交申请文件呢？依据集成电路布图设计保护条例实施细则第7条第1款的规定，「向国家知识产权局邮寄的各种文件，以寄出的邮戳日为递交日。邮戳日不清晰的，除当事人能够提出证明外，以国家知识产权局收到文件之日为递交日。」

此外，跟外国人转让布图设计专有权，又该如何办理呢？依据集成电路布图设计保护条例实施细则第 11 条的规定，「 中国单位或者个人向外国人转让布图设计专有权的，在向国家知识产权局办理转让登记时应当提交国务院有关主管部门允许其转让的证明文件。布图设计专有权发生转移的，当事人应当凭有关证明档或者法律文书向国家知识产权局办理著录项目变更手续。 」

最后，关于办理集成电路布图设计专有权的登记申请的费用，依据中国国家知识产权局第88号公告，自 2003年4月15日起施行「 集成电路布图设计登记收费项目和标准公告 」，如下，计价单位为人民币：

申请人若面交登记申请布图设计，布图设计登记费与印花税共2005元，需要一次付清，一旦审查通过即可颁发证书。如此一来，强化了受理条件，将可使后续流程加快。